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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • GLC2000透明質(zhì)酸鈉混合分散機(jī)

    透明質(zhì)酸鈉混合分散機(jī)是專用于透明質(zhì)酸鈉物料處理的設(shè)備,能通過(guò)高速攪拌、剪切等作用,將透明質(zhì)酸鈉與其他成分均勻混合并分散,避免結(jié)塊,提升物料穩(wěn)定性與均一性。廣泛應(yīng)用于化妝品、醫(yī)藥等領(lǐng)域,可精準(zhǔn)控制混合分散參數(shù),保障產(chǎn)品質(zhì)量,提高生產(chǎn)效率,滿足不同工藝對(duì)物料混合分散的要求。

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  • GMD2000碳納米管鋰電漿料高速分散設(shè)備

    碳納米管鋰電漿料高速分散設(shè)備該設(shè)備專為碳納米管鋰電漿料設(shè)計(jì),借高速轉(zhuǎn)子產(chǎn)生強(qiáng)剪切與湍流效應(yīng),破除碳納米管團(tuán)聚并均勻分散于活性物質(zhì)中。可提升漿料導(dǎo)電性與穩(wěn)定性,減少碳管用量,適配鋰電規(guī)?;a(chǎn),助力高能量密度、長(zhǎng)循環(huán)鋰電池制備。

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  • GMD2000氧化鋁包覆鈷酸鋰正極材料用研磨分散機(jī)

    氧化鋁包覆鈷酸鋰正極材料用研磨分散機(jī)該設(shè)備為正極材料包覆制備核心,以精準(zhǔn)研磨分散技術(shù),先將氧化鋁細(xì)化至納米級(jí),再均勻分散于鈷酸鋰顆粒表面??煽刂瓢埠穸扰c均勻度,提升材料循環(huán)穩(wěn)定性與抗衰減性,適配鋰電正極生產(chǎn),助力高倍率、長(zhǎng)壽命鋰電池材料制備。

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  • GRS2000鋰電新工藝漿料混合分散機(jī)

    鋰電新工藝漿料混合分散機(jī)該設(shè)備適配鋰電新工藝需求,集成預(yù)分散與主混合功能,以強(qiáng)剪切力破除活性物質(zhì)、導(dǎo)電劑團(tuán)聚,配合公轉(zhuǎn)自轉(zhuǎn)無(wú)si角攪拌??删珳?zhǔn)控溫與粒徑,提升漿料均勻性及高固含量適配性,減少批次差異,支持自動(dòng)化集成,助力高一致性鋰電材料規(guī)?;a(chǎn)。

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  • GRS2000二氧化硅納米微球乳液管線式剪切分散機(jī)

    二氧化硅納米微球乳液管線式剪切分散機(jī)該設(shè)備專為二氧化硅納米微球乳液制備設(shè)計(jì),采用管線式連續(xù)處理,以高剪切力高效分散微球,避免團(tuán)聚并精準(zhǔn)控制粒徑分布??商嵘橐悍€(wěn)定性與均一性,適配涂料、生物醫(yī)藥載體等領(lǐng)域,助力微球乳液規(guī)模化、高質(zhì)量生產(chǎn)。

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  • GMD2000鏡面金漿管線式高剪切研磨分散機(jī)

    鏡面金漿管線式高剪切研磨分散機(jī) 該設(shè)備為鏡面金漿制備核心,采用管線式連續(xù)處理,以高剪切力破除金粉團(tuán)聚體,同時(shí)精準(zhǔn)研磨細(xì)化顆粒??蓪?shí)現(xiàn)金粉均勻分散,提升金漿鏡面效果、光澤度與穩(wěn)定性,適配gao端印刷、裝飾等領(lǐng)域,滿足規(guī)?;?、連續(xù)化生產(chǎn)需求。

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  • GRS2000納米二氧化硅包覆改性薄片鋁粉顏料分散機(jī)

    納米二氧化硅包覆改性薄片鋁粉顏料分散機(jī)該設(shè)備專為鋁粉顏料改性設(shè)計(jì),集成包覆與分散功能,借精準(zhǔn)剪切力使納米二氧化硅均勻包覆于薄片鋁粉表面,同時(shí)避免鋁粉破損??商嵘伭夏秃蛐耘c光澤度,適配涂料、油墨等領(lǐng)域,助力高性能金屬顏料規(guī)?;苽?。

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  • GRS2000二氧化硅牙齒高級(jí)填充物納米分散機(jī)

    二氧化硅牙齒高級(jí)填充物納米分散機(jī)該設(shè)備專為牙齒高級(jí)填充物研發(fā),以納米級(jí)研磨分散技術(shù),借強(qiáng)剪切力將二氧化硅顆粒細(xì)化并均勻分散于基體中。可精準(zhǔn)控制粒徑與分散度,提升填充物力學(xué)強(qiáng)度、生物相容性及美觀度,適配牙科修復(fù)領(lǐng)域,助力高品質(zhì)牙科材料制備。

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